納米粉體在高技術(shù)陶瓷材料中應(yīng)用廣泛，但是納米粉體的團(tuán)聚現(xiàn)象嚴(yán)重，影響了其應(yīng)用效果。為了解決粉體團(tuán)聚問題，工業(yè)上通常采用機(jī)械方式解聚，常用的研磨設(shè)備主要有臥式砂磨機(jī)、立式珠磨機(jī)和球磨機(jī)等。臥式砂磨機(jī)對物料適應(yīng)性最廣，是較為先進(jìn)、效率高的研磨設(shè)備之一，配合高性能的冷卻系統(tǒng)和自動(dòng)控制系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)物料連續(xù)加工、連續(xù)出料，極大地提高了生產(chǎn)效率。

為了研究不同研磨設(shè)備及研磨工藝參數(shù)對粉體團(tuán)聚體的解聚效果，多家企業(yè)的工程師以d50＝1.355μm的氧化鋯粉為研究對象，首先分別采用立式球磨機(jī)、立式珠磨機(jī)和臥式砂磨機(jī)在相同研磨條件下進(jìn)行研磨試驗(yàn)，以確定最佳研磨設(shè)備；然后采用最優(yōu)研磨設(shè)備，選擇介質(zhì)物料比、料漿固含量、線速度和研磨時(shí)間作為試驗(yàn)因素，進(jìn)行四因素三水平正交試驗(yàn)，以確定最佳研磨工藝參數(shù)。

上述試驗(yàn)得出的結(jié)論是：

（1）臥式砂磨機(jī)的研磨效果最優(yōu)，研磨后氧化鋯料漿的d50為0.303μm。

（2）采用臥式砂磨機(jī)為研磨設(shè)備時(shí)，在介質(zhì)物料比（m介質(zhì)∶m物料）為4∶1，料漿固含量（w）為45％，線速度為10m·s ^－1 ，研磨時(shí)間為25h的條件下，研磨效果佳，研磨后氧化鋯料漿的d50為0.3μm左右。

版權(quán)聲明

1，本站轉(zhuǎn)載作品(包括論壇內(nèi)容)出于傳遞更多信息之目的，不承擔(dān)任何法律責(zé)任，如有侵權(quán)請聯(lián)系管理員刪除。

2，本站原創(chuàng)作品轉(zhuǎn)載須注明“稿件來源”，否則禁止轉(zhuǎn)載！